甬江实验室微纳平台研发线投产 加速高端光电集成前沿创新

  ICC讯 12月30日，宁波首个高能级微纳平台——甬江实验室信息材料与微纳器件制备平台（简称“微纳平台”）正式投用。这是甬江实验室迄今为止投入最大的平台，致力打造成支撑前沿科技创新、引领微纳制造共性技术、链接并赋能产研生态的开放共享科创服务平台。

  甬江实验室主任助理、微纳平台负责人钟飞博士表示：“先进封装是全球光电集成产业超越摩尔定律、进一步提升集成性能的主要手段，究其本质是异质异构集成技术，而高能级微纳平台正是实现这一技术不可或缺的基础支撑。”

  微纳平台位于甬江实验室创园，拥有一流的基础设施、先进的制程工艺，现已建成6英寸研发线和8英寸验证线各一条，配备了165台（套）高端精密设备。此次投用的是微纳平台6英寸研发线，8英寸验证线有望在2025年投用。在光电子集成领域，受制于设备成本高昂，企业若进行重资产投入，一旦研发失败将遭受重大损失。针对这一产业困境，微纳平台将定位于帮助企业将想法转化为样品，提供高工业参考价值的系统解决方案，进而加快从样品到商品的进程。简而言之，便是通过设备开放共享，降低企业的投入成本。

  目前，甬江实验室微纳平台建立了完善的标准化工艺库，可满足不同芯片的研发需求，并开放给企业使用。平台技术人员也可指导企业，开发其所需的新工艺。钟飞博士表示：“企业可以在平台上完善工艺、提升良率，确保达到市场认可的成熟度之后，再投入产业化。”

  将“链路”拉长，微纳平台有更大的“追求”——跨越学术界和产业界之间的“死亡之谷”。微纳平台将选择有产业化前景的共性核心技术，与高校、企业联合开发，共同完成从理论到技术研究、从技术研究到样品、最终实现量产的全链过程。

  此外，微纳平台还支撑科研团队获批两项2024国家重点研发计划，其中包括甬江实验室牵头的“大尺寸超高纯超厚立方相碳化硅材料制备关键技术及应用”。同时，已开发高深宽比的介质刻蚀等国际领先工艺。力争到2031年，微纳平台将建成有影响力的泛集成电路领域全链条研发与验证平台。

  如有意向合作或咨询，请联系：jiayi-peng@ylab.ac.cn。