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西门子携手格罗方德提供值得信赖的硅光子验证

摘要:西门子EDA Calibre? nmPlatform携手格罗方德硅光平台GF Fotonix为客户提供产品上市时间提供解决方案

  ICC讯 近日,西门子数字行业软件(Siemens Digital Industries Software)宣布其Calibre® nmPlatform 可以帮助设计人员使用格罗方德(GF)最新硅光子平台。GF的下一代、单片平台,即Fotonix ?是行业首个结合具有差异化光子学和RF-CMOS 300mm硅晶圆,可在大规模应用上提供一流水平的性能。

  GF Fotonix工艺设计套件(PDK)包括西门子面向工艺检查(DRC)的Calibre® nmDRC软件和针对布局与示意图(LVS)验证的Calibre® nmLVS软件。两个工具均已获得GF的全面认证,因此为GF Fotonix设计的共同客户可以在硅光子器件上继续使用深受信赖的Calibre nmPlatform,就像他们在以前产品中使用的那样。

Siemens' Calibre® nmPlatform now enables designers to leverage the newest GlobalFoundries (GF) silicon photonics platform.

  西门子Calibre设计方案产品管理副总裁Michael Buehler-Garcia表示:“随着新兴的硅光子市场不断扩大,西门子EDA很高兴可以联合GF拓展我们在这块领域的共同方案。虽然硅光子设计及其随后纳入多芯片产品引入了新的验证复杂性,但这些复杂性已在Calibre硅光子设计套件中被成功解决,无需改变设计人员的Calibre使用方式。”

  GF Fotonix 通过将光子系统、射频 (RF) 组件和高性能互补金属氧化物半导体 (CMOS) 逻辑组合在一个硅芯片上,将以往分布在多个芯片上的复杂工艺整合到一个芯片里。

  格罗方德客户设计导入高级副总裁Mike Cadigan表示:“我们与西门子EDA的合作是GF携手业界领先伙伴为客户提供产品上市时间提供解决方案,驱动创新的一个重要案例。西门子用于设计验证和流片后操作的Calibre工具与GF Fotonix解决方案相结合,可以帮助设计人员高效地发展下一代数据中心、计算和传感应用。”

  硅光子技术可以在集成电路上部署光学元件,然而硅光子器件需要弯曲布局,而非传统CMOS设计的线性网格特征(曼哈顿式),将传统CMOS DRC应用在硅光子布局会产生大量错误,这使得设计团队需要花费数周时间进行跟踪。为了应对这个难题,格罗方德利用西门子Calibre eqDRC? 软件,该软件允许工艺检查使用方程来代替或补充线性测量,以获得更准确的结果并显着减少错误,设计团队只需花费更少的时间和更少的资源来优化他们的电路设计 。

  相似的是,由于光子结构的曲线特性,加上普遍缺乏的光学源表,在执行LVS检查时会面临挑战。传统的IC LVS技术从电子结构中提取物理测量值,并将它们与源表中预期的相应元素进行比较。然而,对于弯曲结构,即使不是不可能,但也很难辨别一个结构从哪里开始,另一个结构在哪里结束。使用带有Calibre LVS的新GF Fotonix PDK,通过使用文本和标记层来识别针对区域以解决这个障碍。

  硅光子器件通常在特定工艺节点单个裸片中实现,然后使用先进的异质封装技术与多个裸片中的其余设计组件堆叠和封装。通过使用完整的核心Calibre产品,可以大大缩短总验证周期时间。

内容来自:讯石光通讯咨询网
本文地址:http://www.iccsz.com//Site/CN/News/2022/05/26/20220526054223323012.htm 转载请保留文章出处
关键字: 西门子 格罗方德 硅光子
文章标题:西门子携手格罗方德提供值得信赖的硅光子验证
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