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国产离子注入设备实现28纳米工艺全覆盖

摘要:中国电子科技集团旗下中电科电子装备集团有限公司已实现离子注入装备28纳米工艺制程全覆盖,有力保障我国集成电路制造行业在成熟制程领域的产业安全。

  ICC讯 据科技日报记者6月29日从中国电子科技集团获悉,该集团旗下中电科电子装备集团有限公司(以下简称电科装备)已实现离子注入装备28纳米工艺制程全覆盖,有力保障我国集成电路制造行业在成熟制程领域的产业安全。

  据悉,离子注入机是芯片制造中的关键装备,28纳米则是当前芯片应用领域中覆盖面最广的成熟制程。

  电科装备连续突破光路、控制、软件等关键模块的核心技术,形成中束流、大束流、高能及第三代半导体等全系列离子注入机产品格局,实现了28纳米工艺制程全覆盖,切实保障中国“芯”的生产制造。

  据了解,作为国内最早从事离子注入设备研制及产业化的企业,电科装备已具备从产品设计到量产应用的完整研制体系,产品涵盖逻辑、存储、功率器件、传感器等工艺器件,百台设备广泛应用于国内各大集成电路先进产线,累计流片量超2000万片,有力提升我国产业链供应链韧性和安全水平。

内容来自:科技日报
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关键字: 离子 设备 28纳米 工艺
文章标题:国产离子注入设备实现28纳米工艺全覆盖
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