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英特尔将投资超200亿美元在美建设两家芯片工厂

摘要:英特尔计划在美国俄亥俄州建设两家新的尖端芯片工厂

  ICC讯  全球芯片巨头英特尔9月30日表示,计划在美国俄亥俄州建设两家新的尖端芯片工厂,投资额超200亿美元(约合人民币1460亿元)。有分析人士指出,英特尔此次巨额投资跟美国1年前推出的《芯片与科学法案》有关,该公司可通过上述投资,获得美国政府的半导体补贴资金。

  美国商务部近日也表示,已经有超过470家公司表示希望能获得美国政府的半导体补贴资金。去年8月份,美国总统拜登签署《芯片与科学法案》,通过巨额产业补贴和遏制竞争的霸道条款推动芯片制造回流本土。

  本周,英特尔位于爱尔兰价值185 亿美元的工厂采用极紫外线(EUV) 光刻机已经开始进行大量生产。

内容来自:集微网
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