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济南晶正携光电晶体薄膜材料亮相慕尼黑上海光博会

摘要:济南晶正电子科技有限公司携光电晶体薄膜材料亮相慕尼黑上海光博会6.1H B135展台,期待客户莅临展位交流指导。本次展会,济南晶正推出了8寸光学级铌酸锂薄膜,也是业内首家将8英寸X轴铌酸锂晶体制成铌酸锂薄膜的企业。

  ICC讯 第十七届慕尼黑上海光博会于2023年7月11-13日在上海国家会展中心如火如荼开展,济南晶正电子科技有限公司携光电晶体薄膜材料亮相6.1H B135展台,期待客户莅临展位交流指导。

  本次展会,济南晶正推出了8寸光学级铌酸锂薄膜,也是业内首家将8英寸X轴铌酸锂晶体制成铌酸锂薄膜的企业,目前市面上主要为3-6英寸型号的铌酸锂薄膜,而光电子器件集成依赖的微加工工艺主流产线为8英寸半导体产线,此次突破将进一步为大规模光子集成创造条件。

  未来铌酸锂薄膜在骨干网相干市场、数通800G、1.6T光模块中均具备广阔的应用前景,铌酸锂薄膜主要被做成高速电光调制器,市场有望达到百亿级别。与硅光调制器和磷化铟调制器相比,薄膜铌酸锂调制器具有高带宽、低插损、低功耗、高可靠性及高消光比等优点。在具备优秀光学性能的同时,还能做到小型化,可满足相干光模块、数通光模块日渐小型化的要求,并且我国在晶体材料、晶体薄膜、加工手段、器件、系统都是自主可控 。目前国内多家厂商已发布数通800G薄膜铌酸锂方案光模块,下游客户已测试相应产品,未来1.6T光模块的应用优势将更加明显。

  产品介绍:

  300-900nm 铌酸锂单晶薄膜


  薄膜用来制作高速电光调制器、高性能声波滤波器等高性能器件,应用于数据中心、长距离数据传输、手机、基站等。

  铌酸锂薄膜调制器优势:

  体积小,稳定性好,带宽大,传输速率高,功耗低,CMOS 驱动电压兼容,可实现光集成。

  300-900nm 钽酸锂单晶薄膜


  产品可应用于高性能滤波器(SAW),应用于手机及无线通信领域。

  薄膜滤波器的Q值高,插入损耗低,陡直度好,Fs稳定性好, TCF小,散热性好,制造成本低。



  关于济南晶正电子科技有限公司

  济南晶正电子科技有限公司是一家集光电晶体薄膜材料研发、生产及销售于一体的高新技术企业。

  公司拥有产业化生产基地以及中美晶体薄膜材料合作研究中心,由海归学者领军研发,在国际上率先开发出300-700纳米厚度铌酸锂单晶薄膜材料产品,可用于制作调制器、滤波器及高密度信息存储器件等,在压电、铁电、红外探测等领域具有广泛应用前景,可极大提高光通讯系统的传输能力和集成度,能够带来巨大经济效益和社会效益。

内容来自:讯石光通讯网
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关键字: 慕尼黑 晶正 展会
文章标题:济南晶正携光电晶体薄膜材料亮相慕尼黑上海光博会
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