ICC讯 第二十届 “中国光谷” 国际光电子博览会(OVC EXPO,以下简称“武汉光博会”)将于5月15-17 日在中国光谷科技会展中心举办。作为行业领先的高端设备供应商,武汉来勒光电科技有限公司将携双透镜自动耦合系统、双FA自动耦合系统、COB自动耦合系统等首发产品亮相武汉光博会。展位号:B1馆B104。诚邀广大行业客户莅临展台洽谈交流!
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双透镜自动耦合系统
应用领域:光通信/信息处理/存储;
描述:双透镜耦合系统适用于透镜耦合与光路整形,设备主要用于实现LD、透镜(包括单透镜、双透镜)、光纤、波导芯片之间的耦合封装,设备具有图像识别和定位功能,可实现自动化上料,自动点胶与UV固化功能。通过配置不同的外围设备,还可实现金锡焊、玻璃焊料、激光焊等多种封装场景。设备功能模块化设计,更新夹具就可适用多种不同规格的透镜与器件,适用性广、扩展性强。
双FA自动耦合系统
应用领域:光通信/信息处理/存储;
描述:双FA自动耦合设备是来勒光电自主研发的一款可兼容TX及RX端的双FA自动耦合设备,设备可自动调整PCB板与FA的相对平行,并同时进行TX端FA端面耦合,以及RX端与FA的垂直耦合(需保证TX和RX在同一端面),并自动点胶固化。
COB自动耦合系统
应用领域:光通信/信息处理/存储;
描述:COB自动耦合系统,是我司自主研发的一款一键式操作、上料装夹方便、多维度视觉识别、可防呆的COB耦合设备,主要用于COB封装类的产品耦合。
关于武汉来勒光电科技有限公司
武汉来勒光电科技有限公司成立于2015年,总部设在湖北武汉,是国家高新技术企业。 来勒光电自成立以来,依托核心技术及自主创新能力实现了多元化和有序发展,目前产品主要涵盖微纳级运动控制系统、半导体芯片测试系统等,可应用于工业自动化检测、激光技术、生物医疗、航空航天等各个行业领域。 公司重点发展高精度自动化设备,致力于不断提升研发实力,成为全球领先品牌,目前已拥有核心技术专利几十项,并有多项软件著作权,处于行业内领先水平。 来勒光电已为全球多个行业领先企业、重点大学及国家级科研院所,提供微米纳米级别的运动控制系统、以及芯片测试系统解决方案,是行业领先的高端设备供应商。