CUMEC硅基光电子MPW流片开放预订

  ICC讯 2020年5月30日，联合微电子中心(CUMEC)在重庆向全球发布“180nm成套硅光工艺PDK”，标志着联合微电子中心具备硅基光电子领域全流程自主工艺制造能力，正式向全球提供硅光芯片流片服务。

  网站：https://service.cumec.cn/schedule

  1. 硅光MPW流片日程安排(MPW Schedule)

  CUMEC硅光第一批有源流片预定6月30日注册截至，还有部分空位，预订从速!

  2、工艺技术(Technology)

  CUMEC硅光工艺平台基于8英寸(200mm) CMOS工艺，凭借先进的248nm DUV光刻技术，实现180nm工艺节点，目前CUMEC硅光工艺平台提供的工艺技术包括：

  3、基础器件(Baseline Block)

  4、流程

  签署NDA

  登录网站https://service.cumec.cn/下载CUMEC CSiP180Al NDA文件，并完成信息填写和签署。

  获取PDK

  请将扫描件发送至service@cumec.cn

  工作人员将在3个工作日内完成NDA文件的审核和反馈，并发送PDK到注册邮箱。

  注册流片

  发邮件至service@cumec.cn注册流片，我方工作人员会与您确认流片信息。

  CUMEC简介：

  联合微电子中心有限责任公司(简称CUMEC公司)是重庆市政府重磅打造的国家级国际化新型研发机构，于2018年10月在重庆注册成立，首期投资超100亿元。CUMEC公司针对国家微电子行业高端发展的需求，着力打造集技术、产品和工艺为一体的光电融合高端特色工艺，以硅基光电子、异质异构三维集成、锗硅射频等工艺技术和产品技术为核心，聚焦“后摩尔时代”世界集成电路发展主流趋势，探索“超越摩尔”的行业发展模式，汇聚海内外一流集成电路人才，打造国际一流的集成电路研发中心。