南智光电携手逍遥科技 | 基于PIC Studio平台正式发布南智光电硅光PDK&培训交流邀请

  引言

  南智光电与逍遥科技共同宣布，基于PIC Studio光电芯片设计平台的南智光电硅光PDK：IOPTEE-SIP-Si-Cband-V1.0正式发布，即将面向硅光设计用户提供服务。

  合作背景

  南智光电的硅光制程平台基于180 nm CMOS工艺线，采用具有3 μm埋氧层和220 nm顶层硅的200 mm SOI衬底，能够实现无源器件、热光调谐器件等各类硅光子器件的制作。

  逍遥科技多年来专注于光电子集成电路设计自动化领域，PIC Studio平台为光电子芯片设计提供了从设计、仿真到验证的全流程支持。

  PDK内容

  1. 完整PDK支持

  PIC Studio平台完整支持南智光电的硅光PDK，包括但不限于：

  ●  南智光电提供的光栅耦合器、多模干涉耦合器、定向耦合器等无源器件

  ●  微环谐振腔等热光调谐器件

  ●  各类波导器件的参数化设计

图1:南智硅光平台总览图。

图2：器件库性能参数表。

  2.精准DRC实现

  基于南智光电提供的设计规则(Design Rules)，PIC Studio平台实现：

  ●  FE/SE/ME层波导最小宽度(0.18μm)检查

  ●  HTR层最小宽度(2.00μm)与间距检查

  ●  M1层金属导线宽度与间距规则检查

  ●  PAD层开口及其与M1层关系检查

  ●  DTR层最小宽度(100μm)规则检查

  ●  所有层的角度规则(禁止<85°)检查

  3.pVerify工具集成

  逍遥科技的PIC Studio平台集成专业的pVerify工具，为南智光电的硅光设计提供全面的DRC检查功能：

  ●  实时DRC检查，在设计过程中提前发现问题

  ●  批量DRC验证，确保设计完全符合南智光电工艺要求

  ●  直观的错误报告与可视化界面，帮助设计师快速定位并解决问题

图3:展示版图经由 pVerify 工具进行工艺规则检查后的结果，检测出(a)波导宽度违规(b)锐角违规

硅光平台MPW批次及时间表

  线上培训交流 

  培训内容概览

  南智光电硅光流片平台最新工艺介绍（30分钟）

  主讲人：南智光电 温文俊博士

  基于PIC Studio的PDK高效应用实操讲解（30分钟）

  主讲人：逍遥科技 韩雨辉

  技术交流与答疑（20分钟）

  培训亮点

  展示商用软件的设计优势

  完整PDK支持，解压即用

  互动有奖

  本次培训旨在帮助用户深入了解IOPTEE PDK的应用，提高设计效率，欢迎广大技术人员踊跃参与！

  主办方：南智光电 逍遥科技

  2025年4月21日下午15：00-16：30

  活动地点：线上会议

（扫码立即预约报名，名额有限，先到先得）

  关于南智光电

  南智光电硅光子学平台基于180 nm CMOS工艺线，提供MPW、Full Mask、EBL等多种流片方式，可实现无源器件、热光调谐器件等各类硅光子器件的制作，应用于数据通信、光计算、生物感测等领域。

  关于逍遥科技

  逍遥科技的自主研发PIC Studio平台为光电子芯片设计提供设计、仿真到验证的全流程支持。