CIOE 2021 | 凌越光电携EML光芯片亮相CIOE

  ICC讯 2021年9月16-18日，凌越光电参加中国国际光电博览会(CIOE 2021)深圳国际会展中心(宝安新馆)展位号5号馆5E会议室，欢迎行业朋友莅临参观交流!

  重庆凌越光电科技有限公司(Leaptek Photonics, Inc.)成立于2020年，是一家国际领先的光芯片IDM公司，专业从事砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)等主流半导体光芯片研发与制造。凌越光电由高度国际化的“行业老兵”团队合作创办，近40人含14位博士，股东包括中国及欧洲团队。公司总部位于重庆两江新区，正在兴建3万平方米从外延生长、晶圆工艺至器件封测全流程设计制造能力的先进光芯片基地，预计2022年下半年投入使用。并与芬兰拥有超过20年成熟芯片量产经验的Modulight公司紧密合作，在欧洲设有从外延设计生长至最终解理封装的全产业工序的研发生产中心。

      凌越光电具备从0.6到1.7 μm的全波段各类激光芯片开发能力，产品包括高速 1310 nm EML和DFB激光芯片，大功率632 nm、905 nm、1550 nm 直流和脉冲激光芯片等，性能已达国际领先水平。 

凌越光电展区(5号馆5E会议室)

  凌越光电主要聚集EML光芯片，在本次展会上现场测试其EML光芯片。从测试性能上来看，表现优越，并获得了行业企业的认可。凌越光电掌握从外延生长，到晶圆工艺至芯片封测全流程生产制造工艺，使得产品的可靠性和一致性得到更大的保障与加强。在9月14-15日的讯石第二十届研讨会上凌越光电联席CEO胡翀发表《高速激光芯片技术的进展及在光通信应用的趋势》的主题报告也得到了高度关注。

  凌越光电展区(5号馆5E会议室)