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第三届国际光学膜及高机能薄膜(上海)展

摘要:2010年03月29日-03月31日 第三届国际光学膜及高机能薄膜(上海),上海国际展览中心(娄山关路88号 或 兴义路77号)

       展览时间:2010年3月29日至31日 
       展会地点:上海国际展览中心(娄山关路88号 或 兴义路77号) 
       主办单位:正亚展览机构 
       组织单位:上海富亚展览有限公司、广州正亚展览有限公司 
       同期召开:第五届国际胶粘带、保护膜展览会(APFE) 
       官方网站:www.zyexpo.com 

       展会简介: 
       OFE2010——全球光学膜-高机能薄膜专业展(第三届)将于2010年3月29-31日在上海国际展览中心举办,展览总面积将达13,000平方米!OFE为中国乃至全球的光学膜行业量身打造的专业展览会,赢得了世界相关产业的广泛关注,成为业界开展交流,扩大贸易和促进合作的重要平台。上届展会曾于2009年5月10-12日在上海国际展览中心举办,有来自全球200多家光学膜行业相关制造商参加并取得了圆满成功,有3m、佑顺发、威格斯、三芝、富士高品印、中和商事、顺安、临安、藤森等知名品牌参展,展览面积近8,000平方米。OFE的举办让业界更多了解全球市场的最新动态,为推动光学膜行业在中国之发展与提升作出积极贡献。 
       OFE2010将于更强大的姿态,更快的步伐全力迈进第五届,为全球光学膜&高机能薄膜与应用市场打造独一无二的国际商业平台! 

       -享誉亚洲 辐射全球: 

       1.OFE--全球光学膜&高机能薄膜首屈一指年度盛会,开创了行业会展先河。 
       2.OFE--拓展您的国际业务最好的市场平台,日本、韩国,欧洲,美国,东南亚等国际买家云集! 
       3.OFE--光学膜&高机能薄膜行业的年度会面之地,是全球市场独一无二的国际商业平台! 
       4.OFE--展示最新光学膜&高机能薄膜技术水平,将有上万名专业观众来自电子、手机、触摸屏、背光模组、光电显示、汽车、数码、家电、印刷等行业到会观摩。 

       展览范围
       包括LCD光学膜材料、偏光膜、背光用膜、反射膜,扩散膜、增亮膜、ITO膜、绝缘膜、光学保护膜、离型膜、胶粘材料、各类高机能薄膜,相关胶粘制品制造设备、原料及化工等行业的“新理念、新技术、新产品、新解决方案”。 

       展位费用: 
       T区(国际展区): USD 2000/展位/展期   光地:国际展区 USD 200/m2/展期 
       A区(国内企业): RMB 8800/展位/展期   光地:国内企业 RMB 900/m2/展期 
       B区(国内企业): RMB 8000/展位/展期   光地:国内企业 RMB 800/m2/展期 

       正亚展览有限公司(APFE展组织机构) 
       电话:021-33518238 
       传真:021-33518239 
       联系人:潘先生13816983318 
       E-mail:zyexpo@163.com 
       http//www.zyexpo.com
内容来自:讯石光通讯咨询网
本文地址:http://www.iccsz.com//Site/CN/News/2010/02/10/20100210053754902795.htm 转载请保留文章出处
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文章标题:第三届国际光学膜及高机能薄膜(上海)展
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