摆脱日本垄断！三星SDI或已开发半导体光刻胶

  ICC讯 在半导体生产领域，韩国三星绝对是巨头中的巨头，然而巨头有时候也受制于人，其中用于极紫外（EUV）光刻工艺的光刻胶材料，一直是这家巨头的“软肋”之一。曾经在2019年，被日本企业限制供货后，导致生产线停滞。

  为了摆脱这一限制，据外媒消息，三星SDI最近正在为其研究中心的光刻胶开发，引入了8英寸晶圆光刻和涂胶显影设备，这也意味着三星终于开始朝着光刻胶材料进行攻克和研发了。

  据韩媒指出，三星SDI开发半导体光刻胶的举措将对韩国持续推进的材料国产化产生重大影响。

  实际上，在韩国当地，Dongjin Semichem和SK Materials Performance等光刻胶供应商一直在为本土化生产而努力。然而，许多行业专家指出，韩国需要投入更多的资金和人力成本，才能成为核心半导体材料的中心。

  行业分析人士指出，如果三星SDI进入该领域并大规模生产光刻胶，将大大增强韩国的半导体材料研究基础设施。

  但三星SDI并未透露光刻胶开发计划的启动和完成时间。该公司仅表示，在完成光刻胶开发后，不仅将向三星电子提供新产品，还将向其他半导体公司及使用光刻胶的公司供货。三星SDI的一位高管表示，“我们一直在开发各种类型的光刻胶，包括 EUV光刻胶。”不过，光刻胶的商业化时间及具体细节还未敲定。

  实际上，熟悉半导体产业的朋友都知道，在半导体制造的材料工艺方面，日本企业的先发优势和行业领导地位，几乎无可逆转，毕竟以闪存为代表的众多半导体工艺的创始企业，几乎都来自日本。