为满足MEMS和生物工程开发需求，Noel宣布扩建其硅谷晶圆厂

  ICC讯 据麦姆斯咨询报道，致力于为世界顶级半导体集成器件制造商(IDM)、半导体原始设备制造商(OEM)和无晶圆厂半导体公司提供先进半导体工艺开发和制造服务的领先供应商、美国Pure Wafer子公司Noel Technologies，近日宣布对其位于美国加利福尼亚州坎贝尔的晶圆厂进行重大扩建。

  Pure Wafer是美国最大的硅晶圆解决方案和服务供应商，也是Lam Research Corporation的全球独家薄膜销售商。Noel Technologies坎贝尔晶圆厂对机台设备和洁净室空间的重大新投资，旨在满足美国半导体制造商及其OEM日益增长的需求，并支持其MEMS和生物工程开发服务需求的急剧增长。

  自1996年成立以来，Noel Technologies一直作为半导体厂商研发组织的延伸，致力于将新开发和原型推向市场。Noel Technologies专门为无晶圆厂半导体公司和OEM提供工艺开发优化解决方案。其半导体工程服务作为先进、高度敏感工艺技术的生产部门，促进了美国的创新浪潮。这包括专注于半导体、生物工程、MEMS、传感器、先进封装以及微流体产品和设备的新半导体工艺能力。

  Pure Wafer首席执行官S.Mark Borowicz表示：“26年来，客户一直信赖我们的服务和设计方法的品质和专有技术。我们将继续投资于先进技术，不断进取，始终支持我们客户的半导体及生物工程研发团队。这些团队将我们视为重要的桥梁，是其关键原型项目从开发到全面量产的的宝贵资源。”

  Noel Technologies完整的硅解决方案及服务

  扩展的洁净室，增加了从2英寸到12英寸的广泛晶圆覆盖

  Noel Technologies在其扩展的洁净室设施中将支持最广泛的晶圆尺寸，包括12英寸、8英寸、6英寸、4英寸和2英寸的机台设备。作为对先进技术投资的一部分，Noel Technologies将其现有的光刻能力提高了5倍;能够处理250微米至2毫米厚衬底，提供多达10-12层的广泛多层项目;并提高其对硅、电介质和金属膜的湿法蚀刻能力。此次扩展还增加了一系列新的等离子体RIE蚀刻、电介质和硅工艺设备。

  Noel Technologies业务发展副总裁Brenda Hill评价称：“对工艺技术和洁净室能力的投资加强了我们独特的光刻能力，扩展了对掩模版版图和工艺开发的工程支持，这将确保客户的设计成功。这些投资将进一步加强我们的SEMI标准业务，我们已成为半导体设备校准标准、半导体制造产品原位加工和工艺控制的行业领导者。”

  关于Noel Technologies

  Noel Technologies成立于1996年，总部位于加利福尼亚州坎贝尔，是Pure Wafer子公司。其创新的工艺开发和工程优化解决方案可满足世界顶级无晶圆厂半导体公司、原始设备制造商和IDM的需求。在半导体、生命科学和MEMS领域的新应用中，Noel Technologies利用其专有的半导体加工技术帮助客户完成项目。Noel Technologies能够处理2英寸至12英寸的晶圆衬底，部署专有的半导体加工技术来构建通常没有制造路径的结构。其先进的光刻服务包括对掩模版版图的工程支持，以及确保设计成功的工艺开发。其广泛的多层处理能力支持多达10-12层的项目，硅、电介质和金属膜的湿法蚀刻能力支持广泛的半导体、生命科学、MEMS和先进封装应用。