Vistec向华沙的ITME提供高性能电子束光刻系统

        波兰华沙和德国耶拿--(美国商业资讯)--领先的电子束光刻系统提供商VIStec电子束公司宣布，华沙著名机构Electronic MateriaLS Technology (ITME)购买了Vistec的可变电子束系统SB251。这款先进的光刻工具将被用于各种微光和衍射元件、新型材料以及光刻掩膜的研究和制造。

        ITME是波兰领先的研究机构，研究领域涉及材料、创新设备和电子、微观力学和光电应用组件的研究、开发和制造等多学科领域。ITME总监Zygmunt Luczynski表示："Vistec的电子束绘图机具有高性能和灵活性，因此我们选用该产品为研究、开发和制造提供支持。我们预计新型Vistec SB251将为成功达成我们的研发计划做出巨大贡献。我们是在欧洲进行招标后，最终决定选择这款产品的。"

        Vistec SB251是一款通用系统，专为直写和掩膜制造曝光设计。该系统能够处理并曝光用于半导体和光学应用的透明及非透明材料。该系统配备50kV电子光、1nm地址网和阶段行程范围为210mm x 210mm的曝光平台，可在各种底膜进行50nm以下光刻，从不超过200mm的晶圆到7英寸的掩膜。该系统拥有图形用户界面(GUI)和全自动盒对盒底膜处理，可被ITME这样多元化、多用户环境的机构高效利用。此外，该系统配备数据准备软件包ePLACE（EQUIcon GmbH提供）。

        Vistec电子束公司总经理Wolfgang Dorl评论说："我们的长期合作伙伴ITME获得了先进的电子束光刻系统Vistec SB251。SB251具有高度灵活性和可靠性，完美适合ITME现在面临的多元化应用并可应对未来挑战。我们的合作始于20多年前，很高兴ITME向Vistec下了订单，进一步推进双方成功的合作关系。"

        媒体信息：

        ITME

        ITME是一家波兰领先的多学科研究机构，致力于开发新型材料和基于电子、微系统、光电、微观力学、计量等应用的创新工具和组件的材料。该研究机构开发的高科技材料、仪器和组件发表于众多波兰和国际期刊，可推动其与大学及研究机构之间开展科学合作，帮助有意客户实施项目，在业内实施或用于该研究机构的短期连续生产。

        ITME制造技术专为半导体材料单晶、氧化物晶体（光学、压电）、超纯金属、玻璃有源光纤开发。纳米技术广泛用于光子晶体等新型材料和超材料的研究，从而生产超纯材料、玻璃有源光纤、光子（一种新型（有源和透明）纳米陶瓷和复合材料，拥有可应用于广泛应用的众多特性）。

        该机构致力于为电子及光电设备、创新激光器、光电探测器、传感器、滤波器、压电、衍射透镜开发外延结构。该研究所继续发展Jan Czochralski教授提出的单晶生长法理念（广泛应用于全球）。开发该方法可促进对半导体和氧化物单晶的高度先进技术的后续开发。

        Vistec电子束光刻集团是一家电子束光刻系统全球制造商和供应商，其产品应用于纳米和生物技术、微电子、光电子、快速原型开发和设计评估的掩膜板制造或直写等工业环境。Vistec电子束光刻集团包括Vistec光刻公司(Vistec Lithography)和Vistec电子束公司(Vistec Electron Beam)。

        Vistec电子束公司

        Vistec电子束公司提供基于变形束技术的电子束光刻机，其产品已被世界领先的半导体公司和众多研究所采用。Vistec的创新电子束系统适用于芯片制造和集成光器件以及科学和商业研究。

        Vistec光刻公司

        Vistec光刻公司开发、生产并销售基于高斯束技术的电子束光刻设备。Vistec的高斯束电子束光刻系统被全球各大研究实验室和大学广泛采用。