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展商剧透 | 湖北九峰山实验室亮相武汉光博会

摘要:第二十届 “中国光谷” 国际光电子博览会(OVC EXPO,以下简称“武汉光博会”)将于5月15-17 日在中国光谷科技会展中心举办。湖北九峰山实验室本次展会携多款方案及产品亮相武汉光博会,展位号B3馆-3B05。

  ICC讯 第二十届 “中国光谷” 国际光电子博览会(OVC EXPO,以下简称“武汉光博会”)将于5月15-17 日在中国光谷科技会展中心举办。作为湖北省实验室之一的九峰山实验室本次展会携检测及工艺亮相武汉光博会,展位号B3馆-3B05,诚邀行业莅临参观交流。

   部分产品抢先看

   光电可靠性检测

     首发产品(首次展出)

     应用领域:电子;光通信/信息处理/存储;

     描述:1、具备消费级,通信级以及车规级产品(AEC-Q102)的可靠性认证与客制化服务; 2、产品寿命模型评估;3、产品可靠性方案设计与验证,实现产品设计、工艺优化,降低FIT; 4、光电晶圆/芯片级DC和RF测试表征。

      异质集成工艺

      首发产品(首次展出)

      应用领域:电子;半导体加工/制造;光通信/信息处理/存储;

      描述:1、涵盖兼容 4/6/8 inch 工艺线多功能键合设备;2、具备多种丰富键合工艺能力(永久/临时键合、亲水/疏水键合,混合键合)以及检测能力;3、可实现高对位精度的晶圆-晶圆键合(≤1um)、芯片-晶圆键合(≤0.3um)工艺;4、可实现多种化合物半导体材料的异质集成,具备先进的硅基光电融合、MEMS、2.5/3D集成及先进封装等综合平台能力。

关于九峰山实验室

  九峰山实验室是湖北省实验室之一,以建设先进的化合物半导体研发和创新中心为愿景,已在中国光谷建立起先进的化合物半导体科研及中试平台,包括完备的材料体系、含7条工艺线的量产级研发流片平台、能力全面的先进检测分析平台,建立起“顶尖专家+科研骨干+研发工程师+技术工匠”的人才梯队,具备以“异质集成”、“先进键合”、“化合物外延”、“集成微波无源器件(IPD)PDK”、“碳化硅(SiC)沟槽”、“PZT压电MEMS”等为代表的技术服务能力。 未来,九峰山实验室将坚持以用为导向,与合作伙伴一同实现相应技术的实现和突破,加快打造全球化合物半导体平台、技术、产业的“灯塔”。

  光通信及信息处理领域:https://www.jfslab.com.cn

内容来自:讯石光通讯网
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