芯光学院-集成电路先进光刻技术与版图设计优化名家讲堂

ICCSZ讯  芯光学院，是先导院成立的培训业务品牌，面向全国微电子和光电行业领域进行人才培养，致力于为国家核心技术行业提供源源不断的人才储备。我们的目标，是打造西北地区实训基地，让更多进入这个行业的新人能够在培训中提升实操技能。我们拥有近200名国内外专家智库团队，与国内外专业平台联合办学，充分有效了解行业最新技术，提升行业认知，可以为学员提供精准和专业的辅导，打通职场晋升之路。

活动主题
名家讲堂-集成电路先进光刻技术与版图设计优化
主办单位
工业和信息化部人才交流中心（MIITEC）
陕西光电子集成电路先导技术研究院
承办单位
IC智慧谷
时间地点
时间：2018年10月10日-11日（周三-周四）
地点：陕西光电子集成电路先导技术研究院（陕西省西安市毕原一路）
支持媒体
讯石光通讯网、光纤在线、芯师爷、芯司机、芯通社、芯智讯、芯片超人、半导体行业观察、半导体行业联盟、光刻人的世界、IC咖啡、芯榜、半导体圈、中国半导体论坛、EETOP、矽说等。

专家介绍

中组部第八批“千人计划”入选者，中国科学院微电子研究所研究员，博士生导师；1998年毕业于德国Stuttgart大学/马普固体研究所，获博士学位，师从诺贝尔物理奖获得者Klaus von Klitzing；先后在美国能源部橡树岭国家实验室、美国英飞凌公司纽约研发中心、美国格罗方德公司纽约研发中心工作；由于在193nm浸没式光刻技术上的开创性贡献，于2009年受SPIE邀请出版专著“Advanced processes for 193nmimmersion lithography”，该书已被美国多所高校和研究机构作为研究生的教材和主要参考书；发表了70篇的专业文献并持有多项美国专利。
韦亚一博士长期从事半导体光刻领域设备、材料和制程研发，先后参与或主持了从180nm一直到10nm节点的光刻工艺研发，具有丰富的先进光刻研发经验，取得了多项核心技术。
2013年7月回国工作，首先作为项目首席科学家主持了国家02重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备和光刻工艺研发”（沈阳芯源微电子设备有限公司）；在中科院微电子所建立了计算光刻课题组，从事20nm以下技术节点的光源-掩模协同优化（SMO）和光学邻近效应修正（OPC）研究；韦亚一的研究成果被广泛应用于国内FinFET和3D NAND的量产工艺中；2016年7月在科学出版社出版了“超大规模集成电路的先进光刻理论与应用”一书；2017年3月计算光刻课题组升格为计算光刻研发中心，并被北京市授予中关村开放实验室，韦亚一博士任中心和开放实验室主任。
1.光刻技术相关设备及材料概
1.1光刻技术概述
1.2光刻技术相关设备
1.3光刻技术相关材料
1.4光刻工艺的设定与监控
2.计算光刻
2.1光刻成像模型概述
2.2传统的分辨率增强技术
2.3光源-掩模联合优化技术
2.4光学邻近效应修正技术
3.设计与工艺联合优化（DTCO）技术
3.1DTCO 的概念和分类
3.2基于先进光刻技术的DTCO 与基于坏点处理的DTCO
3.3完整的DTCO 流程及在工业中的应用
1.请使用微信扫描下方二维码，在线报名： 2.邮件报名
报名回执表下载链：http://www.icplatform.cn/form
填写报名回执表并发送Word电子版至“芯动力”人才计划邮箱：icplatform@miitec.cn
回执表文件名及邮件标题格式为：“报名+第77期+单位名称+人数。” 
1. 注册费：3800元（2天）
注：费用含授课费、场地费、资料费、活动期间餐饮，不含学员交通、住宿等费用（学员自理）。
在线报名请选择“普通学员注册”通道
2. 芯动力合作单位学员、中科创星投资服务企业：3300元
在线报名请选择“合作单位学员注册”通道
3.付款与开票
国信芯世纪南京信息科技有限公司为本期名家讲堂开具发票，发票内容为培训费。请于2018年10月10日前将注册费汇至以下账户，并在汇款备注中注明款项信息（第77期+单位+参会人姓名）。
4.付款信息
户  名：国信芯世纪南京信息科技有限公司
开户行：中国工商银行股份有限公司南京浦珠路支行
帐  号： 4301014509100090749
或请携带银行卡至活动现场，现场支持 POS 机付款。
报名截止日期：2018年10月9日12：00
活动具体咨询：
张志军18009256681（微信同号）