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苏州瀚宸科技有限公司宣布推出高性能10G APD TIA产品PL1106A,正式开始提供样片及技术支持。该芯片适用于FTTH光纤到户ONU终端,助力我国光纤到户升级至10G PON时代。
新加坡专业硅光子代工厂Advanced Micro Foundry(AMF)宣布推出其最新的工艺开发套件(Process Development Kit,PDK)——SiPhab 4.5。SiPhab 4.5为设计者提供了一系列不同的高速器件,能够为800G和1.6T应用创建200G/通道设计。
2024年慕尼黑上海光博会于3月20-22日举行,陕西光电子先导院科技有限公司携VCSEL单孔晶圆、VCSEL阵列晶圆、砷化镓(GaAs)IPD晶圆、氮化镓(GaN)HEMT晶圆4项成果亮相,展位上的各项产品吸引了众多参观者驻足、交流。
厦门优迅采用CMOS工艺设计的10Gbps APD应用跨阻放大器UX2067,适用于10G ER/ZR以及10G PON应用,目前出货量已达千万。
光电芯片设计是一个复杂的过程,需要先进的软件工具来实现快速的迭代和创新。PhotoCAD 软件旨在加速光电芯片在多个设计阶段的进度,包括工艺设计工具包 (PDK)的设置、组件设计、布局设计、测试验证等。在本教程文章中,我们简要举例概述 PhotoCAD 如何解决光电芯片设计过程中的常见痛点。
高通(Qualcomm)下一代处理器Snapdragon 8 Gen4,取消台积电、三星双代工策略,改由台积电独家代工。高通、英伟达等客户争相导入,台积电明年下半年3纳米家族(含N3E)月产能可望冲高至10万片。
本文对AIM Photonics开发的硅基光电子PDK进行评估,并与CMOS和RF晶圆厂的最佳实践进行了比较,及与逍遥科技的PIC Studio平台的功能进行了比较。
讯石光通讯网专访了中科微光子科技(成都)有限公司董事长李志华,据介绍,中科院微电子所基于8英寸CMOS工艺线开发了成套硅光技术,包括硅光流片工艺库和基础器件库,制定了硅光器件和芯片的设计规则和工艺规范,形成了硅光PDK,并于2017年5月正式发布了国内首个具有完整硅光工艺流片能力的硅光平台。
工研拓芯的SLR10S0是一款应用于10G-PON ONU上集成有LA功能的10G Super TIA,搭配低成本PIN PD,可取代目前市场上常规搭配APD的解决方案
讯石专访奥鑫通讯常务副总杜永建,向其了解公司最新发展情况。奥鑫通讯的主营产品包括光纤耦合器、光隔离器、波分复用器、MEMS VOA、TAP PD等高可靠性光无源器件,光有源器件方面现能批量提供全国产化材料的高稳定蝶形激光器。
中国科学院微电子研究所硅光子平台完成了平台工艺设计工具包(PDK),与深圳逍遥科技有限公司光电芯片全流程设计自动化平台PIC Studio 的集成,助力于微电子所硅光子平台的多样性。
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