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台积电将于2024年取得high-NA EUV 或用于2nm工艺量产台积电研究发展资深副总经理米玉杰透露，将在2024年取得ASML下世代极紫外光微影设备(high-NA EUV)。 http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/09/16/20220916071107287726.htm 2022/9/16
台积电遭四大客户砍单！台积电面临联发科、AMD、高通、英伟达等四大客户砍单，计划关闭4台EUV光刻机以减少产出!导致月产能将锐减1.5万片，明年获利恐衰退8%! http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/09/14/20220914014620826700.htm 2022/9/8
LR：ASML有被卷入美国对华芯片战争的风险荷兰政府已拒绝向ASML发放向中芯国际销售EUV设备的出口许可证。但美国想要更全面的禁运。据彭博社本周的一篇报道称，美国正要求荷兰当局阻止ASML向中国销售DUV光刻技术产品。 http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/07/07/20220707005556545768.htm 2022/7/7
ASML全新光刻机准备中：Intel提前锁定冲击2nm工艺对于芯片厂商而言，光刻机显得至关重要，而ASML也在积极布局新的技术。据外媒报道称，截至 2022 年第一季度，ASML已出货136个EUV系统，约曝光7000万个晶圆已曝光。按照官方的说法，新型号的EUV光刻机系统 NXE:3600D将能达到93%的可用性，这将让其进一步接近DUV光刻机(95%的可用性)。 http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/06/28/20220628013754523776.htm 2022/6/28
ASML新一代高NA EUV光刻机样机将于明年上半年面世半导体巨头ASML目前正准备推出一款新的价值4亿美元的下一代光刻机，该产品或将在2020年代末成为其旗舰产品。 http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/05/23/20220523065407504938.htm 2022/5/23
ASML：今年只能完成60%的芯片制造设备订单世界光刻机龙头企业ASML警告说，只有60%的深紫外线(DUV)光刻机的订单能够完成。 http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/04/22/20220422062804191228.htm 2022/4/22
ASML将2025年韩国的销售额目标扩至147.5亿欧元 ASML 将其2025 年在韩国的极紫外 (EUV) 光刻机销售目标提高到 20 万亿韩元(约合147.5亿欧元)。这个数字是去年的两倍多。这主要得益于三星电子和SK海力士的投资大幅增加。 http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/02/22/20220222083502361208.htm 2022/2/22
GaN基垂直腔面发射激光器获重要进展厦门大学的研究小组通过制备低损耗的谐振腔以及在有源区中引入周期性增益结构，成功实现了UVA波段GaN基VCSEL的可调谐低阈值光泵浦激射，发光波长覆盖376-409 nm的光谱范围。 http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/02/18/20220218014435289192.htm 2022/2/18
2025年量产：Intel 18A工艺找到三大客户去年3月份，Intel新上任的CEO基辛格宣布了IDM 2.0战略，其中就包括大手笔投资新的晶圆厂，并快速升级CPU工艺，分别是Intel 7、Intel 4、Intel 3及Intel 20A、Intel 18A，其中前面三代工艺还是基于FinFET晶体管的，从Intel 4开始全面拥抱EUV光刻工艺。 http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/02/09/20220209015559759348.htm 2022/1/28
喜报\|富创优越顺利通过IATF16949:2016国际汽车行业质量管理体系近日，深圳市富创优越科技有限公司（以下简称“富创优越”）接受全球排名榜首的权威认证机构TUV为期多天的IATF16949：2016认证审核，在公司管理层与全体员工的共同努力下，富创优越正式获得汽车行业IATF（International Automotive Task Force）16949：2016质量管理体系证书。 http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/01/05/20220105065427561002.htm 2022/1/5
打破日本垄断三星与韩国厂商合作开发成功EUV光刻胶三星与韩国半导体厂商东进合作开发成功EUV光刻胶，已经通过验证。 http://www.iccsz.com/site/cn/news/2021/12/22/20211222063249296288.htm 2021/12/22
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台积电将于2024年取得high-NA EUV 或用于2nm工艺量产

台积电研究发展资深副总经理米玉杰透露，将在2024年取得ASML下世代极紫外光微影设备(high-NA EUV)。

http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/09/16/20220916071107287726.htm 2022/9/16

台积电遭四大客户砍单！

台积电面临联发科、AMD、高通、英伟达等四大客户砍单，计划关闭4台EUV光刻机以减少产出!导致月产能将锐减1.5万片，明年获利恐衰退8%!

http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/09/14/20220914014620826700.htm 2022/9/8

LR：ASML有被卷入美国对华芯片战争的风险

荷兰政府已拒绝向ASML发放向中芯国际销售EUV设备的出口许可证。但美国想要更全面的禁运。据彭博社本周的一篇报道称，美国正要求荷兰当局阻止ASML向中国销售DUV光刻技术产品。

http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/07/07/20220707005556545768.htm 2022/7/7

ASML全新光刻机准备中：Intel提前锁定冲击2nm工艺

对于芯片厂商而言，光刻机显得至关重要，而ASML也在积极布局新的技术。据外媒报道称，截至 2022 年第一季度，ASML已出货136个EUV系统，约曝光7000万个晶圆已曝光。按照官方的说法，新型号的EUV光刻机系统 NXE:3600D将能达到93%的可用性，这将让其进一步接近DUV光刻机(95%的可用性)。

http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/06/28/20220628013754523776.htm 2022/6/28

ASML新一代高NA EUV光刻机样机将于明年上半年面世

半导体巨头ASML目前正准备推出一款新的价值4亿美元的下一代光刻机，该产品或将在2020年代末成为其旗舰产品。

http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/05/23/20220523065407504938.htm 2022/5/23

ASML：今年只能完成60%的芯片制造设备订单

世界光刻机龙头企业ASML警告说，只有60%的深紫外线(DUV)光刻机的订单能够完成。

http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/04/22/20220422062804191228.htm 2022/4/22

ASML将2025年韩国的销售额目标扩至147.5亿欧元

ASML 将其2025 年在韩国的极紫外 (EUV) 光刻机销售目标提高到 20 万亿韩元(约合147.5亿欧元)。这个数字是去年的两倍多。这主要得益于三星电子和SK海力士的投资大幅增加。

http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/02/22/20220222083502361208.htm 2022/2/22

GaN基垂直腔面发射激光器获重要进展

厦门大学的研究小组通过制备低损耗的谐振腔以及在有源区中引入周期性增益结构，成功实现了UVA波段GaN基VCSEL的可调谐低阈值光泵浦激射，发光波长覆盖376-409 nm的光谱范围。

http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/02/18/20220218014435289192.htm 2022/2/18

2025年量产：Intel 18A工艺找到三大客户

去年3月份，Intel新上任的CEO基辛格宣布了IDM 2.0战略，其中就包括大手笔投资新的晶圆厂，并快速升级CPU工艺，分别是Intel 7、Intel 4、Intel 3及Intel 20A、Intel 18A，其中前面三代工艺还是基于FinFET晶体管的，从Intel 4开始全面拥抱EUV光刻工艺。

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喜报|富创优越顺利通过IATF16949:2016国际汽车行业质量管理体系

近日，深圳市富创优越科技有限公司（以下简称“富创优越”）接受全球排名榜首的权威认证机构TUV为期多天的IATF16949：2016认证审核，在公司管理层与全体员工的共同努力下，富创优越正式获得汽车行业IATF（International Automotive Task Force）16949：2016质量管理体系证书。

http://www.iccsz.com/site/cn/news/2022/01/05/20220105065427561002.htm 2022/1/5

打破日本垄断三星与韩国厂商合作开发成功EUV光刻胶

三星与韩国半导体厂商东进合作开发成功EUV光刻胶，已经通过验证。

http://www.iccsz.com/site/cn/news/2021/12/22/20211222063249296288.htm 2021/12/22

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