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ASML试图规避荷兰新销售许可禁令,计划面向中国市场推出特别版深紫外光刻(DUV)光刻机。
荷兰政府颁布了限制某些先进半导体设备出口的新规定,光刻机巨头ASML第一时间在官网发表声明称,该公司未来出口其先进的浸润式DUV光刻系统(即TWINSCAN NXT:2000i及后续浸润式系统)时,将需要向荷兰政府申请出口许可证。
尽管EUV光刻机无法卖给中国,不过近日ASML表示,可以继续向中国出口深紫外线(DUV)曝光设备。DUV曝光设备是ASML独家生产的极紫外线(EUV)曝光设备的旧款型号,虽然不是尖端设备,但在智能手机和电动汽车、电脑等领域使用的半导体制造中使用较多。
荷兰政府已拒绝向ASML发放向中芯国际销售EUV设备的出口许可证。但美国想要更全面的禁运。据彭博社本周的一篇报道称,美国正要求荷兰当局阻止ASML向中国销售DUV光刻技术产品。
对于芯片厂商而言,光刻机显得至关重要,而ASML也在积极布局新的技术。据外媒报道称,截至 2022 年第一季度,ASML已出货136个EUV系统,约曝光7000万个晶圆已曝光。按照官方的说法,新型号的EUV光刻机系统 NXE:3600D将能达到93%的可用性,这将让其进一步接近DUV光刻机(95%的可用性)。
世界光刻机龙头企业ASML警告说,只有60%的深紫外线(DUV)光刻机的订单能够完成。
荷兰阿斯麦 ASML 首席财务官 Roger Dassen 在财报会议的视频采访中谈及了与中芯国际等中国客户的业务情况。他认为如果广泛地来理解美国规章制度对 ASML 的总体含义(对于特定的中国客户),则意味着 ASML 将能够从荷兰向这些中国客户提供 DUV 光刻系统,且无需出口许可证。不过,如果涉及直接从美国运往此类客户的零件或系统,ASML 则需要为此申请出口许可证。
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