铭普光磁取得“一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质”发明专利证书

  ICC讯  (编辑：Nicole) 东莞铭普光磁股份有限公司(以下简称：铭普光磁或公司)于近日取得一项中华人民共和国国家知识产权局颁发的“一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质”发明专利证书。

  该发明公开了一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质，包括：将光模块放置在高温环境下，当 MCU 温度指针达到目标工作温度时，调节激光器核心温度值、偏压电流值和 VEA 值，使光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值;以光模块中 MCU 温度指针为索引，根据服务器上预先存储的数据库中激光器核心温度值、VEA 值与调节后的激光器核心温度值、VEA 值的对应关系，动态更新本地数据库中激光器核心温度值、VEA 值;在常温和低温下分别测试光模块的光功率、消光比和通道代价，若性能正常，则完成参数配置。

  本申请通过上述步骤将带 EML 激光器的光模块在高温调试和常温低温测试，即能制作成品率高和合格率高的产品。

  具体情况如下：

  证书号：第 4084859 号

  发明名称：一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质

  专利号： ZL 2018 1 1603013.2

  专利类型：发明专利

  专利申请日：2018 年 12 月 26 日

  专利权人：东莞铭普光磁股份有限公司

  授权公告日：2020 年 11 月 10 日

  专利权期限：20 年(自申请日起算)

  铭普光磁表示获得发明专利有利于充分发挥公司自主知识产权优势，完善知识产权保护体系，对公司开拓市场及推广产品产生积极的影响，形成持续创新机制，提升公司核心竞争力。