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光电芯片设计是一个复杂的过程,需要先进的软件工具来实现快速的迭代和创新。PhotoCAD 软件旨在加速光电芯片在多个设计阶段的进度,包括工艺设计工具包 (PDK)的设置、组件设计、布局设计、测试验证等。在本教程文章中,我们简要举例概述 PhotoCAD 如何解决光电芯片设计过程中的常见痛点。
本文对AIM Photonics开发的硅基光电子PDK进行评估,并与CMOS和RF晶圆厂的最佳实践进行了比较,及与逍遥科技的PIC Studio平台的功能进行了比较。
讯石光通讯网专访了中科微光子科技(成都)有限公司董事长李志华,据介绍,中科院微电子所基于8英寸CMOS工艺线开发了成套硅光技术,包括硅光流片工艺库和基础器件库,制定了硅光器件和芯片的设计规则和工艺规范,形成了硅光PDK,并于2017年5月正式发布了国内首个具有完整硅光工艺流片能力的硅光平台。
中国科学院微电子研究所硅光子平台完成了平台工艺设计工具包(PDK),与深圳逍遥科技有限公司光电芯片全流程设计自动化平台PIC Studio 的集成,助力于微电子所硅光子平台的多样性。
讯石专访深圳逍遥科技产品总监陈昇祐,向其了解公司最新发展动态及EDA 产业发展态势。逍遥科技作为全球“特色工艺”半导体芯片设计自动化全流程EDA解决方案的先行者之一,专注于EDA的基础研发和科技创新,为行业提供国产自主、国际一流的硅基光电子与化合物光电子芯片的设计、仿真、验证EDA系统,和PDK技术服务。
讯石喜迎新会员——逍遥科技,其作为全球“特色工艺”半导体芯片设计自动化全流程EDA解决方案的先行者之一, 专注于EDA的基础研发和科技创新,拥有EDA领域专利、软著近30项,为行业提供国产自主、国际一流的硅基光电子与化合物光电子芯片的设计、仿真、验证EDA系统,和PDK技术服务。
晶圆制造商Tower Semiconductor联合瞻博网络推出世界首个全集成III-V族激光器、放大器、调制器和探测器的硅光子晶圆工艺制造平台。PDK有望年底投入使用,首个开放MPW预计明年初运行。首批采用集成激光器的完整400Gb/s和800Gb/s PIC设计样品有望在2022年第二季度发布。
5月30日,联合微电子中心(CUMEC)在重庆向全球发布“180nm成套硅光工艺PDK”,标志着联合微电子中心具备硅基光电子领域全流程自主工艺制造能力,正式向全球提供硅光芯片流片服务。目前CUMEC硅光第一批有源流片预定6月30日注册截至,还有部分空位,预订从速!
CUMEC向全球隆重发布“180nm全套硅光工艺PDK(process design kit)”。180nm 全套硅光工艺PDK的发布标志着联合微电子中心具备硅基光电子领域全流程自主工艺能力,并正式开始向全球提供硅光芯片流片服务。
全球专业代工厂TowerJazz,Cadence Design Systems,Inc。(NASDAQ:CDNS)以及光子设计和仿真工具供应商Lumerical Inc.合并创建了定制设计硅光子学和硅锗(SiGe)集成工艺设计套件(PDK)。合作伙伴表示,PDK为400-Gbps和800-Gbps光收发器的设计人员提供了一个简化的设计环境,用于开发复杂的多结构系统。这些公司补充说,它还促进了共享IC设计环境中的协作。
中科院微电子研究所(IMECAS)和新思(Synopsys)共同宣布在硅光子集成芯片领域展开深入合作,Synopsys在光子集成芯片(photonic integrated circuit,PIC)版图设计软件(Synopsys PhoeniX OptoDesigner)中集成了微电子研究所新研发的、可量产的8英寸CMOS硅光子PDK
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