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当地时间周二(12月12日),阿斯麦与三星电子签署了一项备忘录,将共同投资1万亿韩元(约合7.04亿欧元),在韩国建立研究中心,利用下一代极紫外(EUV)光刻机研究超精细芯片制造工艺。
日本经济产业省正在将对美光广岛工厂的补贴从 3.2 亿美元增加到 12.9 亿美元,以加强国内半导体供应链。
根据ASML公司高管日前透露的消息,NA=0.55的EUV光刻机今年底会出货首个商用原型,2025年会正式量产。
ASML近期由于销往中国大陆设备受限、存储、晶圆代工等客户大砍资本支出、缩减订单,最重要是大客户台积电也大砍逾4成EUV设备订单及延后拉货时间,2024全年业绩将明显承压。
中金公司表示,以GPT为代表的大模型快速发展,带来IDC内部高速通信需求提升。
尽管EUV光刻机无法卖给中国,不过近日ASML表示,可以继续向中国出口深紫外线(DUV)曝光设备。DUV曝光设备是ASML独家生产的极紫外线(EUV)曝光设备的旧款型号,虽然不是尖端设备,但在智能手机和电动汽车、电脑等领域使用的半导体制造中使用较多。
据悉,在2022年底三星电子完成透光率达88%的EUV薄膜产品开发,并可以大规模生产。
尽管全球经济减缓,但三星电子明年将扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能,将新增至少10台极紫外光微影设备(EUV)。
在1α,1β,1γ这三代中,三星在1α上就开始用EUV光刻工艺,但是代价就是成本高。而美光前不久抢先宣布的量产1β内存芯片则没有使用EUV工艺,避免了昂贵的光刻机。
近日,荷兰光刻机巨头ASML公布了第三季度财报,财报显示,其净销售额为58亿欧元(约合410.2亿元人民币),毛利率为 51.8%,净收入为17亿欧元(约120.2亿元人民币),其净预订额更是达到了89亿欧元(约629.4亿元人民币),创造了历史新高。
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