MaRS公司PIC芯片国内流片取得成功

         暨马尔斯公司8月初完成国内第一次芯片代工试验片流片后，公司第二次国内流片取得了圆满成功。
 
        因公司在晶圆厂建成前，产品的核心部分 - 光电PIC芯片的试车及初期生产将主要以代工方式进行。2010年10月中旬，公司派专人到代工方，在前次流片经验基础上，进一步完善工艺。大量测量数据表明，此次流片工艺效果已达到公司在美国硅谷时的水平，在国内实现了光电芯片设计和工艺加工的成功结合。只经过两次流片就取得这样令人满意得结果，有力地证实了公司PIC芯片设计的先进和合理，以及公司在光电芯片工艺加工领域丰厚的经验和技术积累。 芯片关键部分PIC filter 测试效果良好，为公司将硅谷先进的PIC技术引入国内转产奠定了坚实的基础，也为接下来公司各种相关产品的开发生产提供了有利保障。